
Universidade Federal de Santa catarina (UFSC)
Programa de Pós-graduação em Engenharia, Gestão e Mídia do Conhecimento (PPGEGC)
Detalhes do Documento Analisado
Centro: Não Informado
Departamento: Não Informado
Dimensão Institucional: Pós-Graduação
Dimensão ODS: Ambiental
Tipo do Documento: Tese
Título: ANÁLISE DA MOVIMENTAÇÃO SÍNCRONA E SIMULTÂNEA ENTRE SCANNER GALVANOMÉTRICO E EIXOS LINEARES EM APLICAÇÕES LASER
Orientador
- MILTON PEREIRA
Aluno
- CLAUDIO ABILIO DA SILVEIRA
Conteúdo
A constante evolução da tecnologia laser tem permitido seu emprego em diferentes áreas. fontes de laser cada vez mais eficientes e a redução de custo promovem grande expansão de uso no processamento de materiais. scanners galvanométricos são comumente utilizados para atingir velocidades de deslocamentos de vários metros por segundo na movimentação do feixe de laser. no entanto, estes dispositivos apresentam um alcance de processamento limitado a dezenas ou centenas de milímetros na maioria dos casos. este trabalho aborda a influência dos parâmetros e da estratégia de varredura em um sistema de movimentação síncrona e simultânea composto por um scanner galvanométrico 2d e dois eixos lineares. foram realizados ensaios para verificar a influência dos parâmetros de movimentação sobre o tempo total de processamento. para investigar a influência da estratégia de varredura, foi medida a variação da temperatura ao longo do perfil longitudinal de uma amostra. a análise da distribuição de temperatura ao longo do percurso de processamento tem objetivo de avaliar a entrega da energia pelo laser em função do caminho percorrido pelo feixe. os resultados mostram que o tempo de processamento depende da relação entre a área de atuação do scanner e a amplitude dos elementos geométricos processados. quando os vetores de movimentação são superiores a área de atuação do scanner, a demanda por movimentação dos eixos lineares aumenta. nesta condição, a velocidade limitada dos eixos lineares pode apresentar maior significância sobre o tempo de processamento que a própria velocidade do scanner. a estratégia de varredura, por sua vez, apresenta influência direta sobre a distribuição espacial e temporal da energia entregue. estratégias com varreduras do tipo bidirecional apresentam equilíbrio entre o tempo de processamento e a concentração de energia que resulta na elevação pontual da temperatura. a estratégia espiral permite atingir tempos de processamento cerca de 10 % inferiores se comparada com as estratégias anteriores, porém com picos de temperatura 40 % maiores. estratégias baseadas na subdivisão da área a ser processada em áreas menores ou na execução aleatória dos vetores demandam tempos de processamento em média 67 % maiores, contudo, promovem ao menos 15 % de redução nos patamares de concentração de energia se comparadas as estratégias bidirecionais. a combinação dos parâmetros de movimentação bem como a estratégia de varredura utilizada são importantes fatores que contribuem para o correto desempenho da movimentação síncrona e simultânea entre scanner galvanométrico e eixos lineares.
Índice de Shannon: 3.61226
Índice de Gini: 0.881859
ODS 1 | ODS 2 | ODS 3 | ODS 4 | ODS 5 | ODS 6 | ODS 7 | ODS 8 | ODS 9 | ODS 10 | ODS 11 | ODS 12 | ODS 13 | ODS 14 | ODS 15 | ODS 16 |
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3,26% | 5,12% | 4,33% | 3,65% | 2,83% | 4,77% | 28,38% | 4,26% | 7,18% | 4,26% | 9,00% | 5,20% | 5,05% | 4,18% | 4,98% | 3,55% |
ODS Predominates


3,26%

5,12%

4,33%

3,65%

2,83%

4,77%

28,38%

4,26%

7,18%

4,26%

9,00%

5,20%

5,05%

4,18%

4,98%

3,55%