Esta dissertação tem como objetivo estudar o comportamento do substrato transparente condutor composto por óxido de índio dopado com estanho (ito) durante tratamento catódico em eletrólitos inertes de nacl, kcl, ki e alcl3, em diferentes concentrações possuindo a mesma força iônica e em seu ph natural. após o tratamento é observada a formação de partículas esféricas metálicas de in-sn, decorrentes da redução do ito. a morfologia dos depósitos varia com o eletrólito usado e com a velocidade do processo de redução. os resultados obtidos através dos estudos potenciodinâmicos dos eletrodos indicam um processo controlado por resistência ôhmica. o comportamento resistivo observado durante a formação da camada porosa metálica sugere a aplicação do modelo de resistência de camada porosa lprm (do inglês layer-pore resistance model) para análise do processo. no entanto, o modelo lprm, na forma como foi originalmente desenvolvido, não descreve bem o processo. uma modificação ao modelo é proposta, a partir da qual, logra-se obter bons ajustes do modelo às curvas potenciodinâmicas. o conjunto de parâmetros extraído do ajuste de curvas obtidas com diferentes taxas de varredura mostra boa correlação com o crescimento da camada porosa e pode ser interpretado como uma medida do caminho difusivo que os íons do eletrólito necessitam percorrer para atingir a camada de ito subjacente. a modificação da morfologia do substrato durante o processo de redução catódica foi caracterizada por microscopia eletrônica de varredura (mev) e microscopia de força atômica (afm). da análise da rugosidade superficial, obtida das micrografias de afm, extraiu-se o comprimento de correlação, que mede a granularidade da camada porosa. usando conceitos simples de passeio aleatório, foi possível estabelecer uma relação entre o caminho difusivo iônico determinado eletroquimicamente, e a morfologia da camada porosa, para os diferentes eletrólitos utilizados.