Esta tese se concentra em eletrodepositar filmes finos de óxido cuproso (cu2o) dopado com cloro e estudar as características estruturais e ópticas desses filmes. os filmes foram eletrodepositados potenciostaticamente com duas concentrações de cloreto de cobre (cucl2) na solução de deposição (0,01 e 0,1 m). para a caracterização estrutural dos filmes utilizou-se a técnica de difração de raios-x (drx), obtendo-se os valores dos parâmetros de rede e informações sobre textura dos filmes produzidos. utilizou-se também microscopia eletrônica de varredura (feg – mev) e transmissão (tem) para investigar a morfologia de crescimento e a estrutura dos filmes. para determinar as fases presente nos filmes foi utilizada a espectroscopia raman. as propriedades ópticas foram investigadas através de espectros de reflectância, o que possibilitou determinar os índices de refração (n) e o gap (eg) dos filmes estudados. a cristalinidade do material sofreu influência da quantidade de cloro adicionada ao eletrólito, o que é importante, pois pode influenciar nas propriedades elétricas e catalíticas deste material. para obter informações sobre a composição química e a incorporação do cloro nos filmes de cu2o, foram utilizadas as técnicas de espectroscopia por dispersão de energia (eds) e espectroscopia de emissão óptica pela descarga luminescente (gdoes). medidas de capacitância (cxv) e curvas de diodo schottky (ixv) foram realizadas para caracterizar o tipo de semicondutor, demonstrando que os filmes de cu2o são semicondutores tipo n.